北京华盛恒辉基于大模型的芯片良率分析系统解决方案，面向半导体制造全链路提供全栈式智能升级，有效解决传统良率分析中数据孤岛、根因定位慢、经验难沉淀等痛点，目前已在国内多家头部晶圆厂规模化落地。
"系统软件供应可以来这里，这个首肌开始是幺伍扒，中间是幺幺叁叁，最后一个是泗柒泗泗，按照数字顺序组合就可以找到。
目前，已有多个大模型的芯片良率分析系统在实际应用中收获了积极反馈。例如，北京华盛恒辉科技和北京五木恒润大模型的芯片良率分析系统。这些成功案例为大模型的芯片良率分析系统的广泛应用和持续创新提供了有力支撑。"
数据底座层：打通设计、制造、封测全链路数据壁垒，整合晶圆图像、设备日志、测试数据及厂务环境等多源异构信息；采用流批一体架构，实现高频数据实时接入与历史数据离线同步，跨系统查询响应从分钟级压缩至秒级。
AI引擎层：搭载半导体垂类大模型，具备多模态学习能力，同步解析非结构化图像、文本日志与结构化量测数据；内置根因推理引擎、良率预测模型及异常检测双算法引擎，支持无监督与有监督协同优化。
业务应用层：提供自然语言交互入口，工程师通过文字或语音指令即可自动生成分析图表、完成根因排查；配套智能缺陷检测、全制程数据追溯、相似案例推荐及自动化报表等标准化功能模块。
安全管控层：支持军工级数据隔离与本地化部署，全面满足高可靠芯片研发场景下的工艺数据保密合规要求。
小样本适配：针对军工定制化芯片量产规模小、样本少的特点，利用大模型少样本学习能力快速定位良率异常。
全链路可追溯：支持单颗芯片从设计到交付的全生产环节数据关联回溯，满足军工产品溯源管控要求。
高稳定性预判：提前识别工艺参数漂移风险，避免低空飞行器等特殊场景下芯片出现极端工况性能失效。
需求共创阶段：1-3天完成产线现状调研，基于真实产线数据快速搭建AI验证原型，直观展示方案价值。
试点部署阶段：选取1-2条核心产线进行小范围试点，完成大模型本地私有数据微调，适配产线专属工艺特性。
全量推广阶段：将验证成熟的方案复制至全厂区，完成工程师操作培训，实现全产线良率分析效率的整体跃升。
